氮气流量对磁过滤沉积AlN纳米薄膜显微组织与性能的影响

• 作者: 庞盼 廖斌 欧伊翔 罗军 谢文玲 陈琳
• 来源期刊: 湘潭大学自然科学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝薄膜 离子注入 磁过滤沉积 环氧玻璃纤维板
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 页码范围: 20-28
• 页数: 9页
• 分类号: O484.1|TB43
• 语种: 中文

摘要

AlN薄膜具有优良的绝缘性能和力学性能,被广泛应用于微电子领域的绝缘耐压涂层.采用离子注入结合磁过滤等离子体沉积技术,氮气流量为30～90 sccm,在304不锈钢和环氧玻璃纤维板上制备硬质AlN纳米涂层.采用XPS、AFM、XRD和SEM分析AlN纳米涂层的成分、表面形貌及结构.采用纳米硬度计、介电谱仪以及兆欧级电阻表研究涂层的力学和电学性能.结果表明,制备的AlN纳米薄膜结构致密、表面光滑.随氮气流量的增加,薄膜由强(100)择优取向转变为(100)、(002)和(102)任意取向生长.AlN纳米薄膜的纳米硬度、H/E?、H3/E?2先增加后减小,而电导率逐渐下降,阻抗逐渐增加.氮气流量为60 sccm时,AlN纳米涂层具有优良的力学性能和电学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗军		19	65	4.0	8.0
2	廖斌		27	69	4.0	7.0
3	陈琳		12	19	2.0	4.0
4	庞盼		2	0	0.0	0.0
5	谢文玲		1	0	0.0	0.0
6	欧伊翔		1	0	0.0	0.0