复合陷光织构膜对光面晶体硅电池光电特性的影响

• 作者: 彭海烽 李煌 杨星 洪永强 许志龙
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 反射损失 转换效率 陷光织构膜 光线追迹 复合电池
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 22-28
• 页数: 7页
• 分类号: TM914.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2020.01.004

摘要

针对晶体硅表面织构化抵消部分减反射增益的问题,在光面晶体硅电池表面复合三棱锥陷光织构膜来降低其反射损失,同时保留其光生伏特效应较高的优点.分析陷光膜的陷光机理,并通过光线追迹优化陷光膜表面三棱锥结构的几何参数.运用光学仿真与实验对比分析全波长内光面晶体硅电池、绒面晶体硅电池和复合陷光织构膜的光面晶体硅电池光学特性差异,采用加权计算方法定量评价3种晶体硅电池在全波长内的反射损失.实验分析表明,陷光膜可显著降低光面晶体硅电池反射损失,最终复合电池实测加权反射率为6.57％,比光面晶体硅电池和绒面晶体硅电池的加权反射率分别降低8.57％和1.65％;复合电池的光电转换效率达20.34％,比光面晶体硅电池和绒面晶体硅电池分别提高2.33％和1.18％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪永强	厦门大学能源学院	41	192	6.0	12.0
2	许志龙	集美大学机械与能源工程学院	44	253	9.0	14.0
3	彭海烽	集美大学机械与能源工程学院	1	0	0.0	0.0
4	杨星	厦门大学能源学院	2	0	0.0	0.0
5	李煌	集美大学机械与能源工程学院	4	0	0.0	0.0