磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势

• 作者: 赵向杰
• 来源期刊: 合成材料老化与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射镀膜 薄膜制备 应用
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 专论与综述
• 页码范围: 120-122
• 页数: 3页
• 分类号: TB79
• 字数: 2927字
• 语种: 中文

摘要

综述了磁控溅射镀膜技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的发展,利用新型的磁控溅射镀膜技术可以实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备以及提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术.并阐述磁控溅射镀膜技术在电子、光学、表面功能薄膜等许多方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵向杰		11	8	2.0	2.0