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摘要:
以高纯石墨为靶材,Ar、N2为溅射和反应气体,采用直流磁控溅射法,制备了一系列不同N掺杂量的氮化碳薄膜.利用XRD、SEM、分光光度计、高阻抗率计等检测手段对薄膜的成分、形貌、透过率、电阻率等进行表征.结果 表明:CN薄膜已初具晶型;随着溅射腔室中N2含量的增加,薄膜中N含量先增加后减少最后趋于稳定状态,薄膜的电阻率维持在(10-5~1015)Ω·cm范围内变动;透过率基本维持在85%~91%之间.N的掺入对薄膜中的sp3杂化C起到了稳定的作用.
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关键词云
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文献信息
篇名 氮化碳薄膜的光电特性研究
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 sp3杂化 透过率 电阻率 晶型
年,卷(期) 2020,(3) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 34-36
页数 3页 分类号 TQ174|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.08
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 沈洪雪 2 0 0.0 0.0
2 李刚 3 1 1.0 1.0
3 姚婷婷 2 0 0.0 0.0
4 金克武 2 0 0.0 0.0
5 金葆琪 1 0 0.0 0.0
6 王天齐 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
sp3杂化
透过率
电阻率
晶型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
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