氮化碳薄膜的光电特性研究

• 作者: 姚婷婷 李刚 沈洪雪 王天齐 金克武 金葆琪
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: sp3杂化 透过率 电阻率 晶型
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 34-36
• 页数: 3页
• 分类号: TQ174|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.08

摘要

以高纯石墨为靶材,Ar、N2为溅射和反应气体,采用直流磁控溅射法,制备了一系列不同N掺杂量的氮化碳薄膜.利用XRD、SEM、分光光度计、高阻抗率计等检测手段对薄膜的成分、形貌、透过率、电阻率等进行表征.结果 表明:CN薄膜已初具晶型;随着溅射腔室中N2含量的增加,薄膜中N含量先增加后减少最后趋于稳定状态,薄膜的电阻率维持在(10-5～1015)Ω·cm范围内变动;透过率基本维持在85％～91％之间.N的掺入对薄膜中的sp3杂化C起到了稳定的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈洪雪		2	0	0.0	0.0
2	李刚		3	1	1.0	1.0
3	姚婷婷		2	0	0.0	0.0
4	金克武		2	0	0.0	0.0
5	金葆琪		1	0	0.0	0.0
6	王天齐		1	0	0.0	0.0