应用于石墨烯制备的CVD反应炉研制

• 作者: 唐榕 张吉峰 高超
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨烯 CVD 温度控制 反应室压力调节 闭环控制
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TM924.6+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.07

摘要

本文介绍了应用于石墨烯制备的CVD反应炉的工艺原理及技术特点,并以一台已经研制成功的CVD反应炉为例,详细阐述了该设备的相关设计思路及特点.该设备采用先进的控温技术控制加热器的快速升温,通过闭环控制实现了工艺过程中腔室压力的自动控制,具有控制精度高、响应快、一致性好等优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐榕		7	3	1.0	1.0
2	张吉峰		13	4	1.0	1.0
3	高超		2	0	0.0	0.0