防辐射非制冷红外二次成像光学系统设计

• 作者: 吴海清
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学设计 防辐射 非制冷红外 双视场光学系统 二次成像
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 光学设计
• 页码范围: 60-65
• 页数: 6页
• 分类号: O439|TH74
• 语种: 中文

摘要

为解决在高辐射环境中使用的红外热像仪,由于辐射导致其性能退化迅速的技术问题,采用二次成像两档变倍光学系统进行"L"型折叠的结构形式,设计了焦距为30/120 mm的非制冷红外双视场成像光学系统.其工作波段为8～12μm,光学系统F数为1.1.设计结果表明,该系统结构简单紧凑、体积小、成像良好,在探测器对应的特征频率30 lp/mm处的MTF值大于0.4,满足应用需求.