钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
任务中心
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
工业技术期刊
\
一般工业技术期刊
\
真空期刊
\
溅射功率对铒薄膜微观结构的影响
溅射功率对铒薄膜微观结构的影响
作者:
张庆芳
易勇
罗江山
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁控溅射
Er薄膜
微观结构
择优取向
摘要:
采用直流磁控溅射方法制备出铒(Er)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了溅射功率对Er薄膜微观结构的影响.结果 表明:在溅射功率20W~60W的范围内,Er薄膜均为hcp结构,且呈现明显的(110)晶面择优取向的微观织构.Er薄膜生长呈现柱状晶模式,随着溅射功率的增加,柱状晶组织相应长大,薄膜结构更加致密,表面更为平整,其平均晶粒尺寸7.7nm~9.6nm,表面粗糙度最低2.1nm.磁控溅射方法制备的Er薄膜与电子束蒸发等方法制备的Er薄膜相比具有不同的微观结构特征.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
溅射功率对磁控溅射制备Bi薄膜结构和性能的影响
直流磁控溅射
Bi薄膜
溅射功率
射频溅射功率密度对Ga:ZnO透明导电薄膜性能的影响
透明导电薄膜
氧化锌
Urbach带尾
磁控溅射
溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响
FeSiAl 薄膜
直流磁控溅射
溅射功率
氮气含量对射频磁控溅射法制备的AlN薄膜微观结构与力学性能的影响
氮化铝薄膜
反应溅射
择优取向
纳米压痕
硬度
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
溅射功率对铒薄膜微观结构的影响
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
磁控溅射
Er薄膜
微观结构
择优取向
年,卷(期)
2020,(3)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
17-20
页数
4页
分类号
TB742|TB43
字数
语种
中文
DOI
10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.04
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
易勇
西南科技大学材料科学与工程学院
53
162
6.0
9.0
2
罗江山
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
67
469
11.0
16.0
3
张庆芳
西南科技大学材料科学与工程学院
1
0
0.0
0.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(5)
共引文献
(5)
参考文献
(12)
节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1968(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1984(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1992(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1995(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1998(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2005(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2006(3)
参考文献(2)
二级参考文献(1)
2010(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2012(3)
参考文献(3)
二级参考文献(0)
2016(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2018(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2020(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
Er薄膜
微观结构
择优取向
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
期刊文献
相关文献
1.
溅射功率对磁控溅射制备Bi薄膜结构和性能的影响
2.
射频溅射功率密度对Ga:ZnO透明导电薄膜性能的影响
3.
溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响
4.
氮气含量对射频磁控溅射法制备的AlN薄膜微观结构与力学性能的影响
5.
磁控溅射制备参数对ZnO薄膜结构和光学性能的影响
6.
溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响
7.
磁控溅射对薄膜附着力的影响
8.
射频功率对氟化非晶碳薄膜微观性能的影响
9.
溅射功率对ZrNx薄膜微观结构、表面形貌及浸润性能的影响
10.
磁控溅射功率对NiAl涂层成分及显微组织的影响
11.
射频磁控溅射法制备硼薄膜
12.
靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响
13.
磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征
14.
射频磁控溅射法制备含银类钻碳薄膜的结构与性能
15.
射频功率对氧化铬薄膜的力学性能和耐磨损性能的影响
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
任务中心
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
一般工业技术
交通运输
军事科技
冶金工业
动力工程
化学工业
原子能技术
大学学报
建筑科学
无线电电子学与电信技术
机械与仪表工业
水利工程
环境科学与安全科学
电工技术
石油与天然气工业
矿业工程
自动化技术与计算机技术
航空航天
轻工业与手工业
金属学与金属工艺
真空2022
真空2021
真空2020
真空2019
真空2018
真空2017
真空2016
真空2015
真空2014
真空2013
真空2012
真空2011
真空2010
真空2009
真空2008
真空2007
真空2006
真空2005
真空2004
真空2003
真空2002
真空2001
真空2000
真空2020年第6期
真空2020年第5期
真空2020年第4期
真空2020年第3期
真空2020年第2期
真空2020年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号