溅射功率对铒薄膜微观结构的影响

• 作者: 张庆芳 易勇 罗江山
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Er薄膜 微观结构 择优取向
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TB742|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.04

摘要

采用直流磁控溅射方法制备出铒(Er)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了溅射功率对Er薄膜微观结构的影响.结果 表明:在溅射功率20W～60W的范围内,Er薄膜均为hcp结构,且呈现明显的(110)晶面择优取向的微观织构.Er薄膜生长呈现柱状晶模式,随着溅射功率的增加,柱状晶组织相应长大,薄膜结构更加致密,表面更为平整,其平均晶粒尺寸7.7nm～9.6nm,表面粗糙度最低2.1nm.磁控溅射方法制备的Er薄膜与电子束蒸发等方法制备的Er薄膜相比具有不同的微观结构特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易勇	西南科技大学材料科学与工程学院	53	162	6.0	9.0
2	罗江山	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	67	469	11.0	16.0
3	张庆芳	西南科技大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0