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摘要:
采用直流磁控溅射方法制备出铒(Er)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了溅射功率对Er薄膜微观结构的影响.结果 表明:在溅射功率20W~60W的范围内,Er薄膜均为hcp结构,且呈现明显的(110)晶面择优取向的微观织构.Er薄膜生长呈现柱状晶模式,随着溅射功率的增加,柱状晶组织相应长大,薄膜结构更加致密,表面更为平整,其平均晶粒尺寸7.7nm~9.6nm,表面粗糙度最低2.1nm.磁控溅射方法制备的Er薄膜与电子束蒸发等方法制备的Er薄膜相比具有不同的微观结构特征.
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文献信息
篇名 溅射功率对铒薄膜微观结构的影响
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 磁控溅射 Er薄膜 微观结构 择优取向
年,卷(期) 2020,(3) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 17-20
页数 4页 分类号 TB742|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.04
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 易勇 西南科技大学材料科学与工程学院 53 162 6.0 9.0
2 罗江山 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 67 469 11.0 16.0
3 张庆芳 西南科技大学材料科学与工程学院 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
Er薄膜
微观结构
择优取向
研究起点
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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