AM60B镁合金微弧氧化膜的电化学腐蚀行为

• 作者: 刘金忠 孙乐 安凌云 王兴平 王晟 马颖
• 来源期刊: 兰州理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: AM60B镁合金 微弧氧化 腐蚀行为
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 13-18
• 页数: 6页
• 分类号: TG174
• 字数: 3225字
• 语种: 中文

摘要

在硅酸盐体系中对AM60B镁合金进行微弧氧化处理,采用循环伏安(CV)法、Tafel极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)研究膜层在3.5％NaCl介质中的电化学腐蚀行为.结果表明:AM60B镁合金经微弧氧化处理后,膜层耐蚀性得以显著提高.相比低电压下的膜层,高电压下获得膜层微孔略大,但微孔数量明显较少,厚度显著增加,这使得膜层在整个腐蚀过程中呈现了极强的电阻性和优异的耐蚀能力,甚至测试结束时腐蚀介质仍未渗透至膜基面,而低电压下处理得到的膜层,腐蚀介质已渗透至膜基面且侵蚀了基体.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马颖	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	127	1001	16.0	25.0
2	王晟		16	27	3.0	5.0
3	王兴平	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	3	0	0.0	0.0
4	孙乐	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	7	5	1.0	2.0
5	安凌云	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	8	1	1.0	1.0
6	刘金忠	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	2	0	0.0	0.0