CVD钨铼合金的制备及其相关应用

• 作者: 解亚娟 谭成文 于晓东 刘影夏 聂志华 郝玉朋
• 来源期刊: 金属功能材料
• 关键词: 化学气相沉积 钨铼合金 性能及应用
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 页码范围: 15-23
• 页数: 9页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.202000018

摘要

微电子技术的发展促使钨铼合金向高纯、高致密、高均匀化方向发展,化学气相沉积(CVD)W-Re合金在纯度、致密度方面有着绝对优势,探索CVDW-Re合金的制备工艺对制备均匀的高纯高致密W-Re合金有重要意义.从CVD钨铼合金共沉积系统出发,介绍了CVD钨铼共沉积体系中存在的物质及可能发生的基元反应;阐述了不同限速步骤下钨铼合金的组织和性能演变,并强调了铼的气相传质控制下,钨铼合金成分对气相组成和沉积温度的敏感性;解释了高铼含量和低铼含量的钨铼合金的晶体生长形貌和生长机制;结合W-Re二元平衡相图总结了CVD W-Re合金的组成、性能和应用.通过以上对CVDW-Re合金系统的介绍,为高纯、高致密且性能均匀的钨铼合金的制备和应用市场的开发提供了借鉴.