(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化

• 作者: 丁佳伟 万松峰 陈永刚
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 高熵合金氮化物 反应式磁控溅镀 沉积参数 摩擦因数 显微硬度 磨损 灰关联分析
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 镀覆技术
• 页码范围: 20-25
• 页数: 6页
• 分类号: TG13|TG174.44
• 字数: 3869字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2020.01.005

摘要

采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜.通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的影响.对信噪比进行灰关联分析,以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:溅镀功率200 W,沉积温度200°C,氮氩气流量比0.3,基材偏压-100 V.该条件下所得薄膜的摩擦因数为0.46,显微硬度为1243.72 HV,刀具磨损最小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万松峰	东莞职业技术学院机电工程系	33	127	6.0	10.0
2	陈永刚	东莞职业技术学院机电工程系	19	36	4.0	5.0
3	丁佳伟	东莞职业技术学院机电工程系	4	0	0.0	0.0