掩模涨缩技术在衍射光学元件制作中的应用

• 作者: 丁鼎 张鹏 李嘉
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射光学元件 感应耦合等离子体刻蚀技术 涨缩技术 零级光能量
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 62-66
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2634字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.0807

摘要

衍射光学元件是指功能结构尺寸在微米、纳米量级的光学元器件,如何大规模批量制作光学元件是目前研究的重要问题.首先介绍了半导体器件的制作工艺及其应用在衍射光学元件制作上的可行性,分析了感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术用于衍射光学器件制作的反应机理.研究了掩模数据处理中的涨缩技术,将该技术引入衍射光学元件制作中并制作了掩模版.最后,使用经过数据涨缩处理后的掩模版制作微光器件,与未经过数据涨缩处理的掩模版制作的衍射光学元件进行对比.结果 表明,使用相同工艺制作,衍射光学元件数据处理过程中引入涨缩技术不仅可以有效提高刻蚀深度的精度,还可以明显降低衍射零级能量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹏		3	0	0.0	0.0
2	李嘉		1	0	0.0	0.0
3	丁鼎		1	0	0.0	0.0