软质印章石抛光工艺

• 作者: 刘瑞亮 申云 陆静
• 来源期刊: 华侨大学学报（自然科学版）
• 关键词: 粗糙度 光泽度 表面形貌 印章石 机械抛光
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 页码范围: 428-433
• 页数: 6页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.11830/ISSN.1000-5013.201910060

摘要

为了提升软质印章石的加工质量,在不同型号砂纸和溶胶-凝胶(SG)抛光膜上磨抛巴林石、高山石、芙蓉石3种印章石,探讨研磨盘和载物盘的转动方向、转速,加工压力,加工时间等工艺参数及工艺路线,并确定每道工序的最大光泽度值,以及印章石表面形貌和粗糙度之间的关系.结果表明:最终优化工艺的研磨盘、载物盘分别以300,120 r·min-1同向转动,加工压力为15 MPa;最佳工艺路线是通过在400#砂纸半精磨、在2000#砂纸的精磨和在SG抛光膜上抛光,使印章石表面光泽度达到50以上,粗糙度在100 nm左右,表面形貌在放大100倍时无明显划痕.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆静	华侨大学制造工程研究院	11	39	4.0	6.0
2	申云	华侨大学制造工程研究院	1	0	0.0	0.0
3	刘瑞亮	厦门大学机电工程系	1	0	0.0	0.0