RShieldMC程序计算核电厂辅助厂房屏蔽特性

• 作者: 韩静茹 周静 王宏凯 吴晓燕 左嘉旭 靖剑平 付陟玮
• 来源期刊: 核电子学与探测技术
• 学科: 工学
• 关键词: MC RShieldMC 辅助厂房 屏蔽
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 页码范围: 448-451
• 页数: 4页
• 分类号: TL364
• 语种: 中文

摘要

采用自主研发的辐射屏蔽专用蒙卡程序RShieldMC,结合可视化建模工具JLAMT,对某核电厂辅助厂房进行建模,计算辅助厂房屏蔽墙外光子剂量率,并将计算结果与MicroShield、MCNP程序计算结果进行比对.结果表明,RShieldMC计算结果与MicroShield、MCNP程序计算结果符合良好,验证了RShieldMC程序在屏蔽计算问题中的可靠性与工程应用性.