气体流向对等离子清洗工艺的影响

• 作者: 刘彦利 高晓伟
• 来源期刊: 山西电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子清洗 气体流向 工艺影响
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 应用实践
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 2151字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-4578.2020.01.014

摘要

等离子清洗工艺是半导体、薄膜厚膜电路、元器件封装前、芯片键合前等行业的精密清洗辅助工序,清洗效果的好坏会对最终产品质量的好坏有决定性的影响,现有的等离子清洗工艺存在清洗不均匀等问题,通过改变反应仓内的气流方向,能够有效改善等离子清洗工艺,并对工件清洗不均匀问题得到很大改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘彦利	中国电子科技集团公司第二研究所	2	2	1.0	1.0
2	高晓伟	中国电子科技集团公司第二研究所	2	2	1.0	1.0