PECVD工序对多晶硅光伏组件层压色差的影响

• 作者: 刘苗 张福庆 张鹏程 朱少杰 王贵梅
• 来源期刊: 太阳能
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅光伏组件 层压色差 底层氮化硅薄膜的硅氮比 PECVD
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 字数: 2154字
• 语种: 中文

摘要

以平板式PECVD设备的生产工序和多晶硅光伏组件层压色差为研究对象,通过实验研究和观测的方法,对PECVD底层氮化硅薄膜的硅氮比和反应仓密封性对光伏组件层压色差的影响进行了实验验证与分析.研究结果表明,底层氮化硅薄膜的硅氮比高会导致光伏组件外观有发绿或发黑色差;仓体密封性差会漏气,导致组件外观有发红或发灰色差.因此,针对PECVD工序制定合理的底层氮化硅薄膜的硅氮比范围和仓体漏气报警机制,可以有效避免光伏组件层压色差外观不良现象的产生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘苗		11	4	1.0	1.0
2	王贵梅		3	0	0.0	0.0
3	朱少杰		3	0	0.0	0.0
4	张福庆		2	0	0.0	0.0
5	张鹏程		2	0	0.0	0.0