g-C3N4基复合纳米材料光催化性能研究进展

• 作者: 严超 严飞越 匡代洪 杨占金 杨方源 牛浩洋
• 来源期刊: 工业催化
• 学科: 化学
• 关键词: 复合材料 g-C3N4 材料修饰 光催化
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 综述与展望
• 页码范围: 1-7
• 页数: 7页
• 分类号: O47|O644
• 字数: 4707字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1143.2020.08.001

摘要

g-C3N4可见光利用率高,具有非常好的光催化性能,是一种新型的无金属半导体光催化材料,然而电导率低,易团聚,光生载流子容易复合限制了其在实际生产中的应用.为进一步提高g-C3N4基复合材料的光催化性能,研究者做了大量修饰工作,并取得显著成果.本文主要从半导体材料耦合(细分为原子层沉积法和三元纳米材料复合)、贵金属修饰和量子点敏化三个方面概括了近年来对g-C3N4的修饰改性工作,探究了g-C3N4基复合材料在光催化降解有机污染物、光解水制氢、催化"记忆"效应和降解重金属等不同领域方面取得的成效.指出g-C3N4基复合材料发展面临的问题,最后对g-C3N4基复合材料未来的发展提出了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨占金	新疆农业大学数理学院	6	3	1.0	1.0
2	严超	新疆农业大学数理学院	3	0	0.0	0.0
3	杨方源	新疆农业大学数理学院	4	0	0.0	0.0
4	匡代洪	新疆农业大学数理学院	5	3	1.0	1.0
5	牛浩洋	新疆农业大学数理学院	1	0	0.0	0.0
6	严飞越	新疆农业大学数理学院	1	0	0.0	0.0