pH值对CeO2/SiO2纳米复合磨粒分散性的影响

• 作者: 倪自丰 周凌 徐来军 杜春宽 苏敏 赵永武 陈凤 陈国美
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: SiO2 CeO2 纳米复合磨粒 pH值 分散性
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 页码范围: 45-50
• 页数: 6页
• 分类号: TG73|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.5.0008

摘要

以胶体SiO2溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳–核结构完整的CeO2/SiO2纳米复合磨粒.采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过粒径分布、Zeta电位分析,研究水相分散系中pH值对CeO2/SiO2复合磨粒分散性的影响.结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合磨粒为壳–核包覆结构完整的纳米微球,粒径约110 nm,内核为无定形SiO2,壳层为立方萤石型CeO2;CeO2/SiO2复合磨粒的等电位点pH值约为5,其值由SiO2等电位点向CeO2等电位点明显偏移.CeO2/SiO2复合磨粒在酸性水相介质中分散性差,容易出现严重的团聚现象;而在碱性环境下,CeO2/SiO2复合磨粒分散性良好.