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摘要:
为了解决光学元件表面的颗粒污染问题,在单发次激光干式清洗的基础上,提出了气流置换系统辅助的激光清洗方法,使用波长为355nm的Nd:YAG激光器,针对镀溶胶-凝胶SiO2薄膜熔石英光学表面粒径为1μm~50μm的典型SiO2颗粒污染物,进行了理论分析和清洗实验,取得了可用于激光清洗的工艺参量.结果表明,对于镀溶胶-凝胶膜熔石英样品的单发激光干式清洗,最佳激光能量密度为2.29J/cm2,与未镀膜石英的激光清洗工艺参量存在一定差异;在最佳工艺参量下,单发次激光清洗对于粒径1μm以上的SiO2颗粒清洗效果明显,移除率可达82.96%;当污染密度过高时会导致清洗效果的减弱及对基底的损伤,而气流置换系统辅助的激光清洗方法可进一步增强对光学表面颗粒污染的去除效果.该研究对大型高功率固体激光装置中的光学元件在线清洗及清洗装备的设计具有重要的研究意义与实用价值.
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文献信息
篇名 溶胶-凝胶膜光学表面激光清洗工艺研究
来源期刊 激光技术 学科 工学
关键词 激光技术 激光清洗 移除率 熔石英 溶胶-凝胶膜
年,卷(期) 2020,(2) 所属期刊栏目 激光与光电子技术应用
研究方向 页码范围 156-160
页数 5页 分类号 TN249
字数 3321字 语种 中文
DOI 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2020.02.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 向霞 电子科技大学物理学院 27 116 6.0 9.0
2 郭乃豪 电子科技大学物理学院 2 0 0.0 0.0
3 王静轩 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 1 0 0.0 0.0
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激光技术
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大16开
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62-74
1971
chi
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