ICP-OES法测量核电厂二回路水中的二氧化硅

• 作者: 孔祥贡 李建兴
• 来源期刊: 中国核电
• 学科: 工学
• 关键词: 核电厂 二回路 ICP-OES 紫外-可见分光光度法 痕量二氧化硅
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 核电运营
• 页码范围: 363-366
• 页数: 4页
• 分类号: TM623
• 字数: 2351字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12058/zghd.youxian.141

摘要

核电厂二回路二氧化硅含量是电厂水质控制中定期监测的重要项目.目前,对于二氧化硅的测量,各大电厂均采用紫外-可见分光光度法.分光光度法分析二氧化硅过程复杂、耗时、人为误差大、检测限高,无法满足痕量二氧化硅的快速准确测量.本文采用电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)来测量核电厂二回路水中的二氧化硅.该方法具有操作简单、分析快速、结果准确、检测限低等优点.结果 表明,二氧化硅标准曲线线性相关系数大于0.999,加标回收率97.9％～101.8％,相对标准偏差0.91％(n=7),方法检测限可达1.3 μg· kg-1.