氮气流量对磁控溅射C掺杂TiO2薄膜光学性能的影响

• 作者: 江耀华 沈鸿烈 高凯
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: C掺杂TiO2 氮气流量 磁控溅射 透过率 光学带隙
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 351-356
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2020.03.010

摘要

采用磁控溅射法制备了C掺杂TiO2薄膜,并研究了氮气引入溅射过程对薄膜光学性能的影响.利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪、分光光度计和原子力显微镜分析了不同氮气流量下薄膜的微结构、元素价态、透光性能和表面形貌.结果 表明,沉积的薄膜主要是非晶结构,拉曼光谱中存在少量锐钛矿相,且随着氮气流量增大,锐钛矿特征峰强度减弱,意味着晶粒出现细化.当氮气流量增大为4 cm3/min时,C掺杂TiO2薄膜内氮元素含量为3.54％,其光学带隙从3.29 eV变化至3.55 eV,可见光区的光学透过率明显提高.可见改变氮气流量可实现对C掺杂TiO2薄膜光学带隙和光吸收率的有效调控.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈鸿烈	南京航空航天大学理学院	93	264	9.0	10.0
5	高凯	南京航空航天大学理学院	3	0	0.0	0.0
6	江耀华	南京航空航天大学理学院	1	0	0.0	0.0