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低损耗Al2O3薄膜离子束溅射法制备与性能研究
低损耗Al2O3薄膜离子束溅射法制备与性能研究
作者:
李钱陶
李定
熊长新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
低损耗薄膜
光学吸收
离子束溅射
表面均方根粗糙度
消光系数
摘要:
采用离子束溅射技术在反射率大于99.999 7%、中心波长(λ)为635 nm的35层高反波堆表面镀制2M(光学厚度为λ/2)的Al2O3低损耗薄膜.测量分析样品制备不同阶段的表面均方根粗糙度、反射率,通过理论分析,计算得出了2MAl2O3薄膜的光学吸收.研究分析了氧气流量对Al2O3薄膜吸收、表面均方根粗糙度的影响.结果显示,氧气流量对Al2O3薄膜的表面均方根粗糙度影响较小,表面均方根粗糙度优于0.15 nm;随着氧气流量增加,2M Al2O3薄膜的吸收先减小,达到最小极值后再增加;采用优化后的工艺,可以稳定地获得消光系数优于5×10-6的Al2O3薄膜.对进一步降低Al2O3薄膜的弱吸收和扩展Al2O3薄膜的应用有指导意义.
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文献信息
篇名
低损耗Al2O3薄膜离子束溅射法制备与性能研究
来源期刊
光学与光电技术
学科
物理学
关键词
低损耗薄膜
光学吸收
离子束溅射
表面均方根粗糙度
消光系数
年,卷(期)
2020,(4)
所属期刊栏目
光电薄膜
研究方向
页码范围
91-95
页数
5页
分类号
O484.1+1
字数
语种
中文
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低损耗薄膜
光学吸收
离子束溅射
表面均方根粗糙度
消光系数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
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