快速热处理制备纳米耦台Nd-Fe-B磁体的结构与磁性能研究

• 作者: 刘顺荃 张雄祚 杨文云 杨金波 查亮 梁栋 王常生 田海东 金哲星 韩景智
• 来源期刊: 工程（英文）
• 关键词: 纳米耦合 电子束曝光 朗道和郎之万动力学模拟 协同晶化
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 页码范围: 132-140,中插34-中插42
• 页数: 10页
• 字数: 6518字
• 语种: 英文

摘要

纳米永磁材料,因其磁性能卓越,力学性能稳定,热稳定性高,耐腐蚀性强,近年来成为永磁材料领域炽手可热的研究热点.纳米双相耦合永磁材料便是其中重要的分支之一.但到目前为止,在纳米耦合材料中实现的最大磁能积与其理论预言值仍然相去甚远.主要原因是在纳米永磁材料的制备过程中,如何实现理想的微观结构依然面临巨大的挑战.在本工作中,我们总结了快速热处理技术——电子束曝光,对Nd12.5-xFe80.8+xB6.2Nb0.2Ga0.3(x=0,2.5)纳米耦合材料微观结构和磁性能的影响.相比于传统退火技术所需的退火晶化时间(15 min),电子束曝光下结晶时间仅需0.1 s,并且所需结晶温度降低约248℃(Nd2Fe14B单相材料).在电子束曝光条件下,还观察到Nd2Fe14B和α-Fe相协同晶化效应.协同晶化不仅可以影响硬磁相和软磁相的晶粒形状、尺寸和成分,还可以影响它们之间的界面相互作用.随着Fe含量的增加,协同晶化的影响变得更加明显.由于电子束曝光下协同晶化改善了Nd2Fe14B和α-Fe相的均匀性以及抑制了晶粒的过度生长,因而电子束曝光相比于传统退火技术使材料获得了更加优异的磁性能.