离子束溅射沉积速率变化规律研究

• 作者: 李定 李钱陶 熊长新
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束溅射 沉积速率 光谱拟合 膜厚监控 中红外
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 86-90
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

离子束溅射(IBS)系统具有稳定的沉积速率和良好的工艺重复性,然而在沉积初期其速率仍会发生变化.为研究其变化规律,采用离子束溅射技术,以Nb2O5和Al2O3为高低折射率材料,制备了中红外波段高反膜,用傅里叶变换红外光谱仪测试了膜层的反射率光谱曲线,采用扫描电镜测试了膜层的断面形貌,结果显示膜层厚度随着层数的增加而减小.通过光谱反演的方法,建立沉积速率随时间呈指数变化的模型,通过优化设计,使理论曲线与实测结果的吻合程度大大提高,均方根误差由10％下降至1.5％.研究结果为时间监控方式下的膜厚修正提供了参考依据.