水分子在伊利石表面的吸附作用机理分析

• 作者: 王光辉 邱鸿鑫 陈浙锐
• 来源期刊: 矿产综合利用
• 学科: 工学
• 关键词: 分子模拟 浮选 吸附 表面 分子静电势 态密度
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 问题讨论
• 页码范围: 197-202,196
• 页数: 7页
• 分类号: TD94
• 字数: 3807字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6532.2020.03.034

摘要

作为煤炭分选的重要化工分离技术,浮选过程中伊利石的水化会对分选效果造成极大影响.为研究伊利石(001)面和(001)面对水分子的吸附机理,使用Materials Studio软件对水分子在伊利石表面吸附位点预测与模拟计算,应用Multiwfn软件得到了水分子吸附前后伊利石表面静电势,并对吸附前后的电子态密度进行分析.结果表明:在伊利石表面硅氧环上,氧原子附近含有大量静电势极值点,水分子中的氢原子易于受到电负性更大的氧原子吸引,从而形成氢键,且更易吸附到IN-K-001面,水分子的吸附提升了伊利石表面静电势,吸附后体系能量降低,且为后续水化提供了更多吸附活性位点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王光辉	中国矿业大学化工学院	34	124	8.0	10.0
2	陈浙锐	中国矿业大学化工学院	5	6	1.0	2.0
3	邱鸿鑫	中国矿业大学化工学院	4	0	0.0	0.0