在GaAs基电注入阴极中的Ti/Pt/Au电极制备工艺研究

• 作者: 夏聚洋
• 来源期刊: 电子质量
• 学科: 工学
• 关键词: 电注入阴极 光刻胶 Ti/Pt/Au薄膜电极 金属沉积
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 实验室特写
• 页码范围: 128-131
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 1265字
• 语种: 中文

摘要

制备GaAs基电注入阴极需要在p型GaAs材料上制备周期性分布的金属薄膜电极.实验中,分别采用正性光刻胶AZ5214和负性光刻胶RPN1150作为掩膜层,利用热阻蒸发法和电子束蒸发法在材料表面沉积Ti/Pt/Au薄膜,通过薄膜剥离技术去除多余的金属薄膜,形成基极电极.实验结果表明采用负性光刻胶制备的电极质量更好,正性光刻胶制备的电极边缘粗糙,合理地沉积Ti/Pt/Au薄膜厚度可提高电注入阴极的基极电极质量,从而提升电注入阴极的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏聚洋		1	0	0.0	0.0