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摘要:
根据目前热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapour Deposition,HFCVD)金刚石薄膜制备设备现状:存在热丝多为水平放置碳化变脆后易发生断裂、不能实现CVD金刚石薄膜的连续制备、生产成本高及制备效率低等缺点,依据热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的原理,应用Solidework三维设计软件进行三维建模,结合机械设计软件制图,研制出了该型金刚石薄膜连续制备HFCVD设备,并给出了连续镀膜的工艺流程,采用该设备成功批量生长出质量良好的金刚石薄膜.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 金刚石薄膜连续制备的热丝化学气相沉积设备研制
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 金刚石薄膜连续制备 HFCVD 镀膜流程
年,卷(期) 2020,(6) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 1-4
页数 4页 分类号 TB79
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.06.01
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨兵 中国科学院金属研究所 24 143 7.0 11.0
2 黄楠 中国科学院金属研究所 8 19 2.0 4.0
3 史丹 中国科学院金属研究所 2 6 1.0 2.0
4 卢志刚 中国科学院金属研究所 12 78 6.0 8.0
5 刘鲁生 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
6 翟朝峰 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
7 宋昊哲 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
8 于岐 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
9 袁子尧 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
10 陈滨 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
11 周美琪 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
12 李海宁 中国科学院金属研究所 4 23 1.0 4.0
13 喻彪 中国科学院金属研究所 1 0 0.0 0.0
14 姜辛 中国科学院金属研究所 3 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
金刚石薄膜连续制备
HFCVD
镀膜流程
研究起点
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真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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