霍尔源溅射清洗工艺对离子镀TiN涂层结合性能的影响

• 作者: 但敏 刘彤 沈丽如 邓稚 金凡亚 钟利 陈美艳
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 霍尔源 溅射清洗 离子束放电电压 离子镀 TiN
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 5-10
• 页数: 6页
• 分类号: TB79|TG178
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.06.02

摘要

为了研究溅射清洗工艺对基片表面特性的影响机理和规律,采用霍尔离子源产生氩离子束对基片进行溅射清洗,通过调整真空度来改变离子束的放电电压,以此对比不同放电电压下离子束清洗后基片的表面特性及制备涂层的膜基结合强度.实验结果表明,随着镀膜室内真空度的提高,离子束的放电电压逐渐升高、基片接触角值逐渐减小、基片表面粗糙度先减小后增加.制备涂层的膜基结合强度随离子束放电电压的升高呈现逐渐增加的趋势,最高可达60N.采用高能氩离子束溅射清洗后能够获得润湿性、延展性和清洁度都较为理想的基片表面,能有效提高涂层的结合性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟利		1	0	0.0	0.0
2	但敏		3	0	0.0	0.0
3	沈丽如		2	0	0.0	0.0
4	金凡亚		4	0	0.0	0.0
5	陈美艳		1	0	0.0	0.0
6	刘彤		1	0	0.0	0.0
7	邓稚		1	0	0.0	0.0