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基于光敏染料分子光致取向机制的全息光栅制作实验
基于光敏染料分子光致取向机制的全息光栅制作实验
作者:
侯文越
方青庭
朱江转
杨伟雪
罗锻斌
马梦姿
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
全息光栅制作
全息干版
光敏染料分子
光致异构取向
摘要:
相对于传统的全息光栅制作实验,我们结合课题研究内容拓展了一种新的全息光栅制作实验内容.传统的全息光栅制作利用了全息干版中的光敏材料的不可逆的光化学反应,在本文中我们利用一种光敏染料分子的光致异构取向机制来记录干涉光强的分布.我们通过这种光敏染料分子的光致异构取向机制在样品中产生瞬态全息光栅.相比于传统的全息光栅制作实验,我们提出的这种全息光栅制作方式,具有样品可重复利用、制作过程绿色环保、光栅常数可在原光路实时测量等优点,对传统实验教学是一种有益的补充.
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文献信息
篇名
基于光敏染料分子光致取向机制的全息光栅制作实验
来源期刊
物理与工程
学科
关键词
全息光栅制作
全息干版
光敏染料分子
光致异构取向
年,卷(期)
2020,(5)
所属期刊栏目
物理实验
研究方向
页码范围
122-126
页数
5页
分类号
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
罗锻斌
28
52
4.0
5.0
2
朱江转
14
18
3.0
4.0
3
马梦姿
1
0
0.0
0.0
4
杨伟雪
1
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参考文献(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
全息光栅制作
全息干版
光敏染料分子
光致异构取向
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理与工程
主办单位:
清华大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1009-7104
CN:
11-4483/O3
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区清华大学学研大厦B座6层《物理与工程》编辑部
邮发代号:
82-250
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
2772
总下载数(次)
9
总被引数(次)
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