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摘要:
为了评估实际制备中工艺偏差对此前设计的Si/SiO2-InP微柱腔性能的影响,采用了基于有限时域差分法的模拟仿真,从工艺缺陷以及工艺误差两个角度,模拟了非理想工艺条件对Si/SiO2-InP微柱腔性能的影响.结果表明,在目前可达到的加工精度下,如椭圆因子为0.1、锥形侧壁角度为3°、尺寸误差为5%,Si/SiO2-InP微柱腔仍能保持满足应用需求的性能,证明了设计的1.55μm量子点单光子源有很高的鲁棒性.该研究为通信波段单光子源提供了切实可行的方案.
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文献信息
篇名 1.55μm单光子源用Si/SiO2-InP微柱腔的鲁棒性研究
来源期刊 激光技术 学科 物理学
关键词 光学器件 鲁棒性 有限时域差分法 微腔 单光子源 通信波段
年,卷(期) 2020,(5) 所属期刊栏目 激光物理、材料与器件
研究方向 页码范围 532-537
页数 6页 分类号 O439
字数 语种 中文
DOI 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2020.05.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张伟 16 26 3.0 4.0
2 徐强 4 0 0.0 0.0
3 谢修敏 4 0 0.0 0.0
4 宋海智 7 2 1.0 1.0
5 周强 5 4 2.0 2.0
6 赵新华 2 0 0.0 0.0
7 黄帅 1 0 0.0 0.0
8 席琪 1 0 0.0 0.0
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