原子光刻大面积纳米光栅

• 作者: 张彤 殷聪 王建波 石春英 钱进
• 来源期刊: 计量技术
• 关键词: 原子光刻 纳米间距 光栅 大面积 椭圆光斑
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 前沿聚焦
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0771.2020.05.07

摘要

原子光刻光栅的研制存在光栅上纳米周期结构覆盖面积小和纳米条纹高度不一致的问题,限制了原子光刻光栅的应用.本文介绍通过椭圆光斑激光汇聚铬原子沉积大面积一维光栅的技术,将纳米周期结构的覆盖范围扩大到1.5mm×1.5mm,同时,沉积条纹高度的一致性得到有效改善.用椭圆光斑驻波场进行原子光刻研究对实验装置调整的精细度和对准提出了更高的要求.并分析了影响大范围原子沉积的几个关键因素.