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摘要:
以"挑战×机遇2020"为主题的首届学术论坛于2020年8月15日在中央美术学院召开.由中央美术学院科技艺术研究院主办,中央美术学院学报编辑部和中央美术学院实验艺术学院承办.本次论坛共邀集14位学者就相关议题展开热烈研讨.论坛分为两场,分别以"遗产、理论与反思"和"前沿实践与策展"为题展开探讨.
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篇名 "挑战×机遇2020"——科技艺术在中国首届学术论坛综述
来源期刊 美术研究 学科
关键词
年,卷(期) 2020,(6) 所属期刊栏目 科技艺术
研究方向 页码范围 52-55
页数 4页 分类号
字数 语种 中文
DOI
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期刊影响力
美术研究
双月刊
0461-6855
11-1190/J
大16开
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2-172
1956
chi
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