微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究

• 作者: 刘苗 朱少杰 李影影 王贵梅 赵环
• 来源期刊: 太阳能
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅片 SiNx膜 微波板式PECVD设备 均匀性
• 年，卷（期）: 2020,（12）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 56-61
• 页数: 6页
• 分类号: TK514
• 语种: 中文

摘要

由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差.研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响.结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘苗		11	4	1.0	1.0
2	王贵梅		3	0	0.0	0.0
3	朱少杰		3	0	0.0	0.0
4	赵环		1	0	0.0	0.0
5	李影影		2	0	0.0	0.0