微种植体结合CD矫治器远移上颌磨牙时尖牙位置变化的体外研究

• 作者: 彭菁 胡耀政 谭媛欢 陈建明
• 来源期刊: 口腔疾病防治
• 学科: 医学
• 关键词: 微种植体 CD矫治器 安氏Ⅱ类错畸形 支抗 牙齿移动 远中向移动 上颌磨牙 上颌尖牙 三维位置
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 705-709
• 页数: 5页
• 分类号: R783.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.12016/j.issn.2096-1456.2020.11.004

摘要

目的 探讨体外微种植体结合CD矫治器推上颌第一磨牙远中移动时,尖牙三维位置的变化.方法 选择10副安氏Ⅱ类错畸形Typodont模型,随机选取一侧作为实验组,将CD矫治器粘接于实验侧的上颌尖牙与第一磨牙,以直径1.2 mm的不锈钢丝弯制支抗部件,模拟植入颧齿槽嵴的微种植体,并对尖牙施加约180 g的正畸矫治力.而另一侧作为对照组,不加力.随后,在蜡堤模型不同部位植入6个微种植体进行标记,作为实验前后的固定参照物.将Typodont模型放入56℃恒温箱中水浴加热2 min,通过3-shape口内扫描仪对实验前、后模型进行全牙列扫描.通过参照物将实验前后的数字模型进行重叠,测量上颌尖牙、第一磨牙三维位置的变化.结果 实验组第一磨牙牙冠矢状向(远中)移动距离为(0.25±0.33)mm,垂直向移动距离为(0.25±0.28)mm,与对照组相比差异有统计学意义(P<0.05),而横向变化差异无统计学意义(P>0.05);实验组第一磨牙牙根根尖位置变化差异无统计学意义(P>0.05).实验组上颌尖牙牙冠横向移动距离为(4.03±2.11)mm,垂直移动距离为(1.86±1.01)mm,与对照组相比差异有统计学意义(P<0.001),而矢状向变化无统计学差异(P>0.05);实验组上颌尖牙根尖位置变化差异无统计学意义(P>0.05).结论 微种植体结合CD矫治器远移上颌磨牙时,上颌尖牙牙冠发生颊向倾斜的同时也伴随少量压低.