氧掺杂高比表面积g-C3N4的制备及其光催化性能研究

• 作者: 时晓羽 李会鹏 赵华 张杰
• 来源期刊: 化学工程
• 学科: 化学
• 关键词: 石墨相氮化碳 氧掺杂 光催化
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: O641
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9954.2020.09.002

摘要

以二氰二胺(C2H4N4)为原料采用模板剂法制备了高比表面积的石墨相氮化碳(p-C3N4 ),并通过热聚合的方式将氧掺杂于p-C3N4中制备了氧掺杂高比表面积石墨相氮化碳(O-p-C3N4 ).通过X射线衍射光谱(XRD)、傅里叶红外光谱(FT-IR)、氮气吸附-脱附(BET)、紫可见漫反射光谱(UV-Vis)、荧光光谱(PL)对催化剂进行表征.在500 W氙灯照射下通过光催化降解罗丹明B和光催化水解制氢2种方式对催化活性进行考察.结果表明:氧掺杂能够有效地降低光生-电子空穴的复合几率,提高光催化活性.其中80％O-p-C3N4表现出最佳活性,降解罗丹明B的速率和产氢速率分别是p-C3N4的3.8倍、2.9倍,且循环使用5次后依然具有很高的催化活性.