某厂低温甲醇洗中杂质硫的影响及消除研究

• 作者: 管晨羽 李燕 张述伟
• 来源期刊: 化学工程
• 学科: 工学
• 关键词: 低温甲醇洗 过程模拟 CH4S Aspen Plus NH3
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 传质过程及设备
• 页码范围: 14-19
• 页数: 6页
• 分类号: TQ113.26
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9954.2020.09.004

摘要

某厂低温甲醇洗工艺的新原料气中除含有H2S,CO2等酸性气体外,还含有甲硫醇(CH4S)和NH3杂质.CH4S和NH3杂质在原低温甲醇洗工艺中难以被去除而在甲醇中累积,进而会导致工艺的产品无法达到要求.因此需要对原工艺流程进行改造,避免杂质在甲醇中的累积.首先利用Aspen Plus对原低温甲醇洗流程进行模拟.其后提出2种改造方案,并通过灵敏度分析确定了关键参数.方案1通过新增1个氮气汽提塔、1个气液分离罐和1台换热器成功地将CH4S和NH3杂质总摩尔分数降至4×10-6.方案2则利用了CH4S可与O2发生反应生成二甲基二硫醚的机理,通过新增1个反应器和1个精馏塔,将CH4S和NH3杂质降至6 × 10-6.2种方案都将有助于帮助实际工厂开发切实可行的含CH4S和NH3杂质原料气的净化处理工艺.