集成电路掩模分辨率增强技术

• 作者: 华卫群 周家万 尤春
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 分辨率增强技术 相移掩模 光学邻近效应修正 光源掩模协同优化
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 64-67
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113

摘要

随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要.介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法.