不同缓冲气体中ArF准分子激光系统 放电特性分析

• 作者: 周翊 王倩 范元媛 赵江山 郭馨
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: ArF 准分子激光 流体模型 电子数密度 光电离
• 年，卷（期）: 2020,（17）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 299-306
• 页数: 8页
• 字数: 3629字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.69.20200087

摘要

为深入理解挖掘ArF准分子激光系统运转机制,进而获得ArF准分子激光系统设计优化的理论及方向性指导,文章基于流体模型,以气体高压放电等离子体深紫外激光辐射过程为主要研究对象,研究了放电抽运ArF准分子激光系统的动力学特性,分析了不同缓冲气体中,ArF准分子激光系统极板间电压、电流、光子数密度变化趋势及电子数密度空间分布情况,讨论了光电离在系统放电过程中的重要作用.结果表明,Ne作为缓冲气体时,电子耗尽层及阴极鞘层宽度更小,放电更加稳定.在Ne中添加杂质气体Xe,可以通过光电离加速放电区域的扩展,减小电子耗尽层及阴极鞘层的宽度,降低放电发生的阈值电压,提高放电稳定性.