聚对氨基苯磺酸-MoS2纳米片复合膜修饰玻碳电极溶出伏安法测定Pb2+

• 作者: 上官伟 李鑫 王学亮 王朝霞 邹娜 马忠慧
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 硝酸铅 对氨基苯磺酸 MoS2纳米片 方波溶出伏安法
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 研究报告与研究简报
• 页码范围: 1075-1079
• 页数: 5页
• 分类号: O657.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2019.121603

摘要

通过滴涂及电聚合的方式在玻碳电极(GCE)表面制备了二硫化钼(MoS2)-聚对氨基苯磺酸(pAB SA)复合膜修饰电极,并通过循环伏安法(CV)和电化学交流阻抗法(EIS)对修饰电极进行了表征.该复合膜对Pb2具有良好的催化活性,利用方波溶出伏安法(SWSV)对pb2+在复合膜上的电化学行为进行了研究.在最优条件下,Pb2+的溶出峰电流值与其浓度在0.5 nmol/L ～2.5μmol/L的范围内呈良好线性关系,R2=0.9983,检出限为0.1 nmol/L.同时探究了电解质种类、pH、富集时间、富集电位等因素对Pb(NO3)2溶出伏安响应信号的影响.对实际样品进行检测,加标回收率98.6％～101.2％.