4,4'-二氨基二苯醚分子印迹聚合物/聚4,4'-二氨基二苯醚的电化学合成及其吸波性能研究

• 作者: 马明明 杜茹 楚楚
• 来源期刊: 化学通报（印刷版）
• 关键词: 4,4’-二氨基二苯醚 分子印迹聚合物 二次电聚合法 荷电量 电磁波吸收
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 80-87
• 页数: 8页
• 语种: 中文

摘要

本文采用二次电聚合法,在石墨烯修饰铅笔芯电极(G-PEC)表面制备出4,4'-二氨基二苯醚分子印迹聚合物复合聚4,4'-二氨基二苯醚(4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL)新型电磁材料,考察了电极有效导电长度、石墨烯浓度、缓冲液pH、4,4'-二氨基二苯醚与功能单体丙烯酰胺的浓度及其浓度比、扫描电位范围、扫描圈数、扫描速率、洗脱时间等各种条件对复合材料荷电量的影响.矢量网络分析仪测试结果显示,所合成的复合材料在12.56GHz处出现-10.57dB的反射损耗,有效电磁波吸收率达到90％;而单一的4,4'-ODL-MIP和石墨烯反射损耗均高于-10dB,有效电磁波吸收率分别仅约为68％和60％,因而复合材料具备良好的吸波性.