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摘要:
对硅基二氧化硅阵列波导光栅解复用器(AWG DEMUX)的偏振相关损耗(PDL)进行了优化.理论分析了引起AWG偏振相关性的物理因素以及消除偏振相关性的工艺方法和条件.利用化学气相沉积、光刻和刻蚀等半导体工艺制备了AWGDEMUX芯片,并结合理论分析对包层材料中的硼(B)、磷(P)含量进行了优化调整,成功地将芯片的PDL降低至0.12 dB,使PDL参数满足芯片的商用化需求.
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文献信息
篇名 阵列波导光栅解复用器的偏振相关损耗的优化
来源期刊 中国激光 学科 工学
关键词 光通信 阵列波导光栅 解复用器 偏振相关损耗
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 光纤光学与光通信
研究方向 页码范围 227-231
页数 5页 分类号 TN256
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL202047.0106003
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研究主题发展历程
节点文献
光通信
阵列波导光栅
解复用器
偏振相关损耗
研究起点
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中国激光
月刊
0258-7025
31-1339/TN
大16开
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4-201
1974
chi
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