氟化钙晶体缺陷对应力双折射影响机制的研究

• 作者: 刘荣荣 吴庆辉 姜大朋 张博 李晓辉 梅炳初 王静雅 苏良碧 郑金祥
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化钙 位错 小角度晶界 结晶质量 应力双折射
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 声光电磁晶体材料专栏
• 页码范围: 1049-1056
• 页数: 8页
• 分类号: O734
• 字数: 3668字
• 语种: 中文

摘要

氟化钙(CaF2)晶体具有紫外透过率高(>99％@193 nm)、抗激光损伤阈值高等特点,在高功率紫外激光器、深紫外光刻机等领域具有广泛的应用.应力双折射是氟化钙晶体在实际应用中的关键性能指标,会导致通过晶体的光束发生形变,严重影响成像质量.采用坩埚下降法制备了尺寸为φ210 mm的氟化钙晶体,系统研究了CaF2晶体的位错和小角度晶界以及结晶质量对晶体应力双折射的影响,实验结果表明,位错密度的增高、小角度晶界的聚集、结晶质量的变差,会引起局部残余应力的集中,加剧应力双折射现象.