铪掺杂对类金刚石薄膜的结构和光学带隙的影响

• 作者: 朱丽雯 蒋爱华 邵智清 黄泽怀
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜 铪掺杂 磁控溅射 光学带隙
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 页码范围: 1079-1084
• 页数: 6页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2020.11.15

摘要

以甲烷为源气体,高纯碳和金属铪为靶材,采用双靶共溅射磁控技术制备了铪掺杂类金刚石(Hf-DLC)薄膜,通过现代分析测试技术手段对薄膜的表面形貌、键合结构、化学组成和光学性能等进行表征、分析.结果 表明,随着铪靶溅射功率的增大,薄膜中Hf含量增加,且薄膜中Hf与C形成纳米晶HfC;铪掺杂使得薄膜表面颗粒减小,变得更加细密.Hf-DLC薄膜的光学带隙在1.12 ～1.85 eV,表现出半导体材料带隙特性;Hf掺杂使得薄膜中sp2C含量降低,碳π～π*带边态密度增大,导致其光学带隙随着掺杂Hf量的增加而减小.因此,通过合理控制Hf-DLC薄膜中Hf的含量,可实现对薄膜的结构和光学带隙的有效调控.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋爱华		15	26	3.0	4.0
2	邵智清		1	0	0.0	0.0
3	黄泽怀		1	0	0.0	0.0
4	朱丽雯		1	0	0.0	0.0