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摘要:
电子光学系统是毫米波速调管长寿命和整管性能实现的关键,毫米波速调管零件尺寸较小,为了在Ka波段和W波段实现千瓦量级的输出功率,要求具有高的电子注通过率及低的阴极负荷.对Ka波段和W波段电子光学系统特性进行了分析,确定了Ka波段10 kW分布作用速调管和W波段1 kW分布作用速调管电子光学系统的设计方案,利用软件对电子枪和聚焦系统的结构进行计算,并采用CST仿真软件对设计的电子枪发射的电子注在聚焦磁场中的状态进行优化.设计出的Ka波段速调管电子光学系统,电子枪工作电压26 kV,发射电流2 A,互作用区长度30 mm,磁场强度大于0.6 T,流通达到100%.设计的W波段速调管电子光学系统,电子枪工作电压17 kV,电流0.65 A,互作用区长度20 mm,磁场大于0.9 T,流通达到100%.已制成Ka波段速调管和W波段速调管,设计的电子光学系统能够满足速调管工程化需求.
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文献信息
篇名 毫米波速调管电子光学系统的研究
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 Ka波段 W波段 电子光学系统 电子枪 聚焦系统
年,卷(期) 2020,(10) 所属期刊栏目 高功率微波技术
研究方向 页码范围 95-99
页数 5页 分类号 TN122
字数 语种 中文
DOI 10.11884/HPLPB202032.200208
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 冯海平 12 21 3.0 4.0
2 孙福江 9 20 3.0 4.0
3 韦莹 9 19 2.0 4.0
4 杨继涛 6 1 1.0 1.0
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强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
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