聚酰亚胺薄膜飞秒激光蚀刻和激光诱导活化后化学镀铜

• 作者: 唐光超 崔开放 张立红
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 化学镀铜 飞秒激光蚀刻 激光诱导活化 结合力
• 年，卷（期）: 2020,（21）
• 所属期刊栏目: 镀覆技术
• 页码范围: 1477-1480
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.14
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2020.21.006

摘要

以聚酰亚胺(PI)薄膜为基体,先通过飞秒激光进行刻蚀改性,再通过激光诱导活化在PI薄膜表面制备铜微粒,最后进行化学镀铜.研究了飞秒激光刻蚀功率对铜镀层覆盖率的影响,分析了蚀刻和活化前后PI薄膜的表面形貌和亲水性,以及铜镀层的微观结构、导电性和结合力.结果表明,当飞秒激光功率为30 mW时,蚀刻效果最佳.活化后,PI基体表面形成了大量铜微粒,化学镀铜后镀层的覆盖率高达100％,电阻率为3.8μΩ·cm,结合力良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立红		22	86	5.0	8.0
2	崔开放		13	19	3.0	3.0
3	唐光超		1	0	0.0	0.0