ChCl-EG低共熔溶剂中Ni的电沉积行为研究

• 作者: 从铭玥 孙海静 徐飞 时婧 杜俊荣 毕铭雪 王媛媛 王焕磊 郑起
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 低共熔溶剂 镍 电沉积 氯化胆碱 乙二醇
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 1052-1054,1058
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.1+2
• 语种: 中文

摘要

对氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂中Ni的电沉积行为进行研究.采用循环伏安法和计时电流法研究了ChCl-EG低共熔溶剂中电沉积Ni的电化学行为、成核生长机理,利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)对电沉积得到的镀层进行微观形貌和元素组成分析.结果 表明,ChCl-EG低共熔溶剂的电化学窗口为2.55 V,在ChCl-EG低共熔溶剂中镍的氧化、还原电位分别是0.1 V、-0.96 V,还原过程为一步还原,电极还原反应不可逆,镍沉积的成核机理属于三维瞬时成核,得到的镍镀层平整、致密.