TiAlN/CrN多层膜的组织结构及耐蚀性机理

• 作者: 文广 李明昆 王丽君 王梦超 陈辉
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN/CrN多层膜 TiAlN涂层 CrN涂层 多弧离子镀 耐腐蚀性 电化学性能
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 表面失效及防护
• 页码范围: 268-274
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 5149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.08.031

摘要

目的 研究TiAlN/CrN多层膜及TiAlN、CrN单一膜层的微观组织和电化学性能区别,分析不同结构薄膜材料的耐腐蚀性影响因素.基于电化学参数、组织结构和腐蚀形貌特征,为开发新型腐蚀性薄膜提供理论依据.方法 采用多弧离子镀方法,在316不锈钢基底上先沉积150 nm Cr薄膜作为过渡层,然后交替沉积CrN薄膜和TiAlN薄膜,制备单层厚度为10 nm的TiAlN/CrN多层膜.作为对比,制备单一TiAlN、CrN薄膜.通过SEM、XRD表征薄膜断面形貌、组织结构,并分析耐蚀机理,结合极化曲线和阻抗谱对三种涂层进行电化学性能分析,最后对涂层进行浸泡腐蚀试验.结果 TiAlN/CrN纳米多层膜为面心立方结构,呈现共格外延生长,且呈(200)择优取向.纳米多层膜的动电位极化曲线测量结果与不锈钢基体和单层薄膜相比,其腐蚀电位正移为?0.36 V,腐蚀电流密度降低为0.501μA/cm2,极化电阻为120 kΩ·cm2.阻抗谱试验结果表明,相比较于单层膜和基体,TiAlN/CrN多层膜的CPE值最低,为29.83×10?6Ω?1·cm?2·sn,n值为0.922,电阻为1.50×106Ω·cm2.腐蚀形貌分析可得出,多层薄膜腐蚀后表面形貌与沉积态涂层形貌最为接近,认为其具有较高的耐腐蚀性.结论 纳米层状结构改变了单一薄膜的原始生长模式,抑制了粗大柱状晶的生长,减小了薄膜的固有缺陷、晶粒尺寸,对薄膜的耐蚀性有正面积极的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈辉		179	1208	16.0	26.0
2	文广		11	6	2.0	2.0
3	王梦超		2	0	0.0	0.0
4	王丽君		2	0	0.0	0.0
5	李明昆		1	0	0.0	0.0