镀铜银纳米线导电薄膜铜层蚀刻液研究

• 作者: 张晓东 杨钊 梁雨轩 闫国栋
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 银纳米线 导电薄膜 蚀刻 铜 保护胶 光电性能
• 年，卷（期）: 2020,（19）
• 所属期刊栏目: 表面技术
• 页码范围: 1352-1356
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.93
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2020.19.012

摘要

介绍了一种新型镀铜银纳米线导电薄膜制备技术:以磁控溅射法在涂布了OC(保护胶)的银纳米线(AgNWs)薄膜表面覆盖纳米铜层来替代银浆,再通过黄光制程中的蚀刻工艺将铜层进行图案化蚀刻.研究了蚀刻液中过硫酸钠和磷酸用量对铜层蚀刻效果的影响,得到较佳的铜蚀刻液为:磷酸117.7 g/L,过硫酸钠35.3 g/L.采用该蚀刻液能够将镀铜银纳米线薄膜上的Cu层完全蚀刻掉,并且不损坏OC层和AgNWs层,蚀刻时间易控,效果好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫国栋		3	0	0.0	0.0
2	梁雨轩		2	0	0.0	0.0
3	张晓东		3	2	1.0	1.0
4	杨钊		3	2	1.0	1.0