原子层沉积技术对纤维素膜功能化的影响

• 作者: 张文奇 李文斌 蒋培清 黎俊妤
• 来源期刊: 纺织学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纤维素膜 原子层沉积技术 纳米氧化锌 紫外线阻隔 抗菌性能
• 年，卷（期）: 2020,（12）
• 所属期刊栏目: 纤维材料
• 页码范围: 26-30,36
• 页数: 6页
• 分类号: TS101
• 语种: 中文
• DOI: 10.13475/j.fzxb.20200407406

摘要

为扩大纤维素膜的使用范围,使其可应用于医用、建筑等领域,利用纳米氧化锌具有紫外线屏蔽、抗菌等特性,采用原子层沉积(ALD)技术在纤维素膜表面沉积纳米氧化锌,制备具有紫外线阻隔以及抗菌功能的纤维素膜,并探讨不同ALD温度和循环次数对纤维素膜性能的影响.借助紫外分光光度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、热重分析仪等对纤维素膜的结构和性能进行分析.结果表明:随着ALD温度和循环次数的增加,纤维素膜的紫外线透过率由74.50％下降至1.46％;ALD功能化纤维素膜对金黄色葡萄球菌的抑菌率高达99.9％;经改性的纤维素膜表面附着了六方晶系纤锌矿结构的纳米氧化锌层,残碳率由16.61％增加至31.20％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黎俊妤		1	0	0.0	0.0
2	蒋培清		1	0	0.0	0.0
3	张文奇		2	0	0.0	0.0
4	李文斌		1	0	0.0	0.0