平面阵列电容传感器优化

• 作者: 吴轲 邓晨肖 马敏
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 学科: 工学
• 关键词: 电容层析成像 平面电容阵列 传感器优化 边缘效应 缺陷检测
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 25-29
• 页数: 5页
• 分类号: TP212
• 字数: 4312字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13873/J.1000-9787(2020)03-0025-05

摘要

非金属复合材料内部出现损伤会有不同的介电特性,可以采用平面式阵列电容传感器实现损伤可视化检测.针对平面式的44电极阵列结构,研究屏蔽层和传感器相关参数对数据测量和成像效果的影响.仿真与实验结果表明:传感器极板的最佳间距为3 mm,加入边缘屏蔽和极间屏蔽后可以改善传感器的性能;并且随着极间屏蔽宽度的增加,灵敏度的均匀性和测量灵敏度都会大幅提高,电容测量的动态范围有所减小,以此可以提高平面阵列电容传感器的检测能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马敏	中国民航大学电子信息与自动化学院	64	283	10.0	12.0
2	吴轲	中国民航大学电子信息与自动化学院	2	0	0.0	0.0
3	邓晨肖	中国民航大学电子信息与自动化学院	2	2	1.0	1.0