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摘要:
目的 研究不同沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS2复合薄膜微观结构及摩擦学性能的影响.方法 采用非平衡射频磁控溅射法制备WS2薄膜和La-Ti/WS2复合薄膜.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观形貌、成分和晶向结构进行表征.用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和白光干涉三维形貌仪测试薄膜的力学性能和摩擦磨损性能.结果 掺杂La和Ti可以改善WS2复合薄膜的微观结构.在给定的沉积压力下,La-Ti/WS2复合薄膜均呈岛状生长模式,组织均匀,且排列较为紧凑,结构致密性好.随着沉积压力的增大,WS2(002)衍射峰向高 θ 值偏移,晶面间距减小,晶格发生收缩.复合薄膜的硬度和弹性模量随着沉积压力的增大,先增大后减小.沉积压力为1.2 Pa时,La-Ti/WS2复合薄膜的摩擦系数低至0.07左右,磨损率低至2.45×10–8 mm3/(N·m).结论 沉积压力对La-Ti/WS2复合薄膜的性能有较大影响,合适的沉积压力可以提升La-Ti/WS2复合薄膜的摩擦磨损性能.
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文献信息
篇名 沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS2复合薄膜结构和摩擦学性能的影响
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 沉积压力 磁控溅射 La-Ti/WS2复合薄膜 摩擦系数 磨损
年,卷(期) 2020,(7) 所属期刊栏目 表面摩擦磨损与润滑
研究方向 页码范围 168-174,183
页数 8页 分类号 TG174.4|TH117.1
字数 4003字 语种 中文
DOI 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.07.021
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 薛玉君 河南科技大学机电工程学院 100 849 16.0 24.0
5 叶军 河南科技大学机电工程学院 24 355 10.0 18.0
7 王景华 12 46 5.0 6.0
8 蔡海潮 河南科技大学机电工程学院 24 71 6.0 6.0
14 贺江涛 河南科技大学机电工程学院 2 0 0.0 0.0
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沉积压力
磁控溅射
La-Ti/WS2复合薄膜
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磨损
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表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
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5547
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34163
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